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致力于高端涂層技術的研究和推廣
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類金剛石薄膜是以sp3和sp2鍵的形式組合而成的亞穩(wěn)定材料，具有鉆石和石墨的優(yōu)良特性，硬度高。電阻率高。良好的光學性能和良好的摩擦學特性。那類金剛石薄膜的制備方法都有哪些呢？
一、類金剛石薄膜的物理氣相沉積法。
離子束沉積法，剛開始用于制備類金剛石涂層的方法是離子束沉積法。該方法采用各種離子源形成高密度碳原子或離子，通過引出和加速電極將具有一定能量的碳離子束引入沉積室，在基體表面形成類金剛石涂層。
另一種離子束增強沉積法是離子束沉積法的改進。該方法法在碳原子(或離子)在基體表面成膜的同時，用另一種離子束轟擊生長中的DLC薄膜，該方法得到的金剛石涂層在綜合性能方面大幅度提高。
濺射沉積法，濺射沉積不同于離子束沉積。濺射沉積類金剛石薄膜不需要復雜的離子源。由射頻振蕩或磁場激發(fā)的氬離子轟擊固體石墨靶，形成的濺射碳原子(或離子)沉積在基體表面的金剛石涂層。該方法的特點是沉積的離子能量范圍廣。根據(jù)濺射偏壓的種類，可以分為DC濺射、低頻濺射、高頻濺射、射頻濺射等。
脈沖激光沉積法，脈沖激光束通過聚焦鏡頭和應時窗口引入沉積腔，投射到旋轉(zhuǎn)的石墨靶上，在高能密度的激光作用下形成激光等離子體放電，產(chǎn)生的碳離子能量高，在基體上形成擴展鍵的四配位結(jié)構，沉積成金剛石涂層。該方法具有沉積率高、表面光滑、硬度高、sp3鍵含量高的無氫DLC膜和非晶金剛石膜的優(yōu)點。但是，該方法還存在涂層沉積過程能耗高、涂層沉積面積小的缺點。
二、類金剛石涂層的化學氣相沉積法。
直流輝光放電化學氣相沉積，利用高壓DC負偏壓對低壓碳氫氣體進行輝光放電，產(chǎn)生等離子體，在電場作用下沉積在基體上形成DLC膜，設備簡單，成本低，操作方便，電極污染，可應用范圍廣等。
射頻化學氣相沉積，利用射頻輝光放電產(chǎn)生等離子體，其中包括感應耦合和平行板電容耦合兩種形式。由感應耦合制成的薄膜沉積率較低。通過射頻輝光放電將碳氫氣體分解，在負偏壓作用下沉積在基體上形成DLC薄膜，其特點是低壓產(chǎn)生的薄膜厚度均勻，沉積速度高，穩(wěn)定性好，可調(diào)性和重復性好。
那么今天的講解就先到這里了，以上就是今天的全部內(nèi)容，相信大家對類金剛石薄膜的物理與化學的制備方法也有了一定的認識。非常感謝您的耐心閱讀。如還想了解更多關于類金剛石薄膜的相關問題，您可以撥打右上角的服務熱線，與我們咨詢。
類金剛石薄膜是以sp3和sp2鍵的形式組合而成的亞穩(wěn)定材料，具有鉆石和石墨的優(yōu)良特性，硬度高。電阻率高。良好的光學性能和良好的摩擦學特性。那類金剛石薄膜的制備方法都有哪些呢？
一、類金剛石薄膜的物理氣相沉積法。
離子束沉積法，剛開始用于制備類金剛石涂層的方法是離子束沉積法。該方法采用各種離子源形成高密度碳原子或離子，通過引出和加速電極將具有一定能量的碳離子束引入沉積室，在基體表面形成類金剛石涂層。
另一種離子束增強沉積法是離子束沉積法的改進。該方法法在碳原子(或離子)在基體表面成膜的同時，用另一種離子束轟擊生長中的DLC薄膜，該方法得到的金剛石涂層在綜合性能方面大幅度提高。
濺射沉積法，濺射沉積不同于離子束沉積。濺射沉積類金剛石薄膜不需要復雜的離子源。由射頻振蕩或磁場激發(fā)的氬離子轟擊固體石墨靶，形成的濺射碳原子(或離子)沉積在基體表面的金剛石涂層。該方法的特點是沉積的離子能量范圍廣。根據(jù)濺射偏壓的種類，可以分為DC濺射、低頻濺射、高頻濺射、射頻濺射等。
脈沖激光沉積法，脈沖激光束通過聚焦鏡頭和應時窗口引入沉積腔，投射到旋轉(zhuǎn)的石墨靶上，在高能密度的激光作用下形成激光等離子體放電，產(chǎn)生的碳離子能量高，在基體上形成擴展鍵的四配位結(jié)構，沉積成金剛石涂層。該方法具有沉積率高、表面光滑、硬度高、sp3鍵含量高的無氫DLC膜和非晶金剛石膜的優(yōu)點。但是，該方法還存在涂層沉積過程能耗高、涂層沉積面積小的缺點。
二、類金剛石涂層的化學氣相沉積法。
直流輝光放電化學氣相沉積，利用高壓DC負偏壓對低壓碳氫氣體進行輝光放電，產(chǎn)生等離子體，在電場作用下沉積在基體上形成DLC膜，設備簡單，成本低，操作方便，電極污染，可應用范圍廣等。
射頻化學氣相沉積，利用射頻輝光放電產(chǎn)生等離子體，其中包括感應耦合和平行板電容耦合兩種形式。由感應耦合制成的薄膜沉積率較低。通過射頻輝光放電將碳氫氣體分解，在負偏壓作用下沉積在基體上形成DLC薄膜，其特點是低壓產(chǎn)生的薄膜厚度均勻，沉積速度高，穩(wěn)定性好，可調(diào)性和重復性好。
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