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致力于高端涂層技術(shù)的研究和推廣
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今天我們就一起來了解一下真空鍍膜的技術(shù)分類。
一、真空鍍膜的物理氣相沉積技術(shù)是指在真空條件下，利用各種物理方法，將鍍料氣化成原子、分子或離子，直接沉積在基體表面的方法。制備硬質(zhì)反應(yīng)膜多采用物理氣相沉積方法制作，利用物質(zhì)熱蒸發(fā)、離子轟擊時物質(zhì)表面原子濺射等物理過程，實現(xiàn)物質(zhì)原子從源物質(zhì)到膜的控制轉(zhuǎn)移過程。物理氣相沉積技術(shù)具有薄膜/基結(jié)合力好、薄膜均勻致密、薄膜厚度控制性好、應(yīng)用靶材廣、濺射范圍廣、可沉積薄膜、成分穩(wěn)定的合金薄膜和重復性好等優(yōu)點。同時，物理氣相沉積技術(shù)由于其工藝處理溫度可控制在500℃以下，可作為高速鋼和硬質(zhì)合金類薄膜刀具的結(jié)束處理工藝。由于采用物理氣相沉積技術(shù)可以大大提高刀具的切削性能，人們在競爭開發(fā)高性能、高可靠性設(shè)備的同時，對其應(yīng)用領(lǐng)域的擴展，特別是高速鋼、硬質(zhì)合金和陶瓷類刀具的應(yīng)用進行了更深入的研究。
二、化學氣相沉積技術(shù)是將含有構(gòu)成薄膜元素的單質(zhì)氣體或化合物供給基體，利用氣相作用或基體表面的化學反應(yīng)，在基體上制作金屬或化合物薄膜的方法，主要包括常壓化學氣相沉積、低壓化學氣相沉積和CVD和PVD兼具特征的等離子化學氣相沉積等。
那么今天的講解就先到這里了，相信大家對真空鍍膜的技術(shù)分類也有了一定的認識。非常感謝您的耐心閱讀。
今天我們就一起來了解一下真空鍍膜的技術(shù)分類。
一、真空鍍膜的物理氣相沉積技術(shù)是指在真空條件下，利用各種物理方法，將鍍料氣化成原子、分子或離子，直接沉積在基體表面的方法。制備硬質(zhì)反應(yīng)膜多采用物理氣相沉積方法制作，利用物質(zhì)熱蒸發(fā)、離子轟擊時物質(zhì)表面原子濺射等物理過程，實現(xiàn)物質(zhì)原子從源物質(zhì)到膜的控制轉(zhuǎn)移過程。物理氣相沉積技術(shù)具有薄膜/基結(jié)合力好、薄膜均勻致密、薄膜厚度控制性好、應(yīng)用靶材廣、濺射范圍廣、可沉積薄膜、成分穩(wěn)定的合金薄膜和重復性好等優(yōu)點。同時，物理氣相沉積技術(shù)由于其工藝處理溫度可控制在500℃以下，可作為高速鋼和硬質(zhì)合金類薄膜刀具的結(jié)束處理工藝。由于采用物理氣相沉積技術(shù)可以大大提高刀具的切削性能，人們在競爭開發(fā)高性能、高可靠性設(shè)備的同時，對其應(yīng)用領(lǐng)域的擴展，特別是高速鋼、硬質(zhì)合金和陶瓷類刀具的應(yīng)用進行了更深入的研究。
二、化學氣相沉積技術(shù)是將含有構(gòu)成薄膜元素的單質(zhì)氣體或化合物供給基體，利用氣相作用或基體表面的化學反應(yīng)，在基體上制作金屬或化合物薄膜的方法，主要包括常壓化學氣相沉積、低壓化學氣相沉積和CVD和PVD兼具特征的等離子化學氣相沉積等。
那么今天的講解就先到這里了，相信大家對真空鍍膜的技術(shù)分類也有了一定的認識。非常感謝您的耐心閱讀。