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致力于高端涂層技術(shù)的研究和推廣
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PVD技術(shù)簡(jiǎn)介：
PVD是英文Physical Vapour Depostion的簡(jiǎn)寫(xiě)，中文物理氣相沉積。它是一種生產(chǎn)金屬基礎(chǔ)的硬質(zhì)涂層的方法，它借助于生成局部電離金屬蒸汽，與特定氣體反應(yīng)，并在基材上形成帶有指定成分的薄膜。最常用的方法是濺射和陰極電弧。在濺射中，蒸汽通過(guò)有活力的氣體離子轟擊金屬靶材生成。陰極電弧法使用重復(fù)真空電弧放電以沖擊金屬靶材和蒸發(fā)材料。所有PVD工藝是在高真空條件下沉積到產(chǎn)品上的。
陰極電弧是PVD領(lǐng)域中功能最多的沉積方式之一。采用電弧蒸發(fā)使大面積固態(tài)靶材高度蒸發(fā)離化，在可控的方式下與通入的反應(yīng)氣體結(jié)合，沉積成氮化鈦TiN、碳氮化鈦TiCN、氮鋁化鈦AlTiN、氮化鉻CrN等不同的膜層。
立仁愛(ài)邦PVD工藝用于大量五金、塑料、壓鑄模具,刀工具和精密部件的涂層。
PVD工作原理：
相關(guān)圖片：
